光刻膠的旋涂曲線受那些因素影響？

知識(shí)星球（星球名：芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)，星球號(hào)：63559049）里的學(xué)員問：聽光刻的老師傅說，光刻膠的旋涂一般會(huì)遵循特定的旋涂曲線規(guī)律，可以介紹下旋涂曲線的相關(guān)知識(shí)嗎？

什么是旋涂曲線？

如上圖，是AZ P4000系列光刻膠的旋涂曲線。旋涂曲線是描述光刻膠在旋涂過程中，膜厚度隨旋轉(zhuǎn)速度變化的關(guān)系曲線。通過調(diào)整旋涂速度，可以控制最終沉積在基片上的光刻膠膜厚度。通常來說，旋涂速度越快，沉積的膜厚度越薄，反之亦然。一般來說，不同的光刻膠旋涂曲線是不一樣的。

影響光刻膠膜厚的因素有哪些？

1，旋涂速度，較高的旋涂速度旋的膠更薄，低速則會(huì)導(dǎo)致較厚的膜。

膜厚度與旋轉(zhuǎn)速度的平方根成反比。

2，光刻膠的種類與固含量，就像人有高矮胖瘦，光刻膠也有稠有稀。固含量高，膠稠，相同轉(zhuǎn)速下的厚度更厚。

3，濕度，溫度，這兩個(gè)主要影響光刻機(jī)在旋涂中的蒸發(fā)速度。

4，機(jī)臺(tái)構(gòu)造。比如加蓋與不加蓋，以及蓋子距離旋轉(zhuǎn)臺(tái)的體積等，對(duì)光刻膠的厚度具有巨大影響。

如何確定光刻膠旋涂曲線？

1，供應(yīng)商給

2，自己測(cè)供應(yīng)商給的只是在理想狀態(tài)下，不太精確，但是能得到大概趨勢(shì)?？梢葬槍?duì)自己的情況，再對(duì)具體的旋涂曲線進(jìn)行確定。

歡迎加入我的半導(dǎo)體制造知識(shí)星球社區(qū)，目前社區(qū)有2000人左右。在這里會(huì)針對(duì)學(xué)員問題答疑解惑，上千個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)資料共享，內(nèi)容比文章豐富很多很多，適合快速提升半導(dǎo)體制造能力，介紹如下：? ? ?《歡迎加入作者的芯片知識(shí)社區(qū)！》