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EUV光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，于2019年初交貨。

極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，于2019年初交貨。收起

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  • 日本成功引入首臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)
    日本成功引入首臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)
    近日，芯片制造領(lǐng)域傳來(lái)重大消息：Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機(jī)，成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導(dǎo)體公司。這一舉措無(wú)疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。
  • 深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
    深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機(jī)那么難？
    為什么研發(fā)EUV光刻機(jī)那么難？
    雖然表面上看，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機(jī)依賴于波長(zhǎng)僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個(gè)非常難以控制的“燈泡”，但這個(gè)“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強(qiáng)大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會(huì)影響最終的成像效果。
  • ASML業(yè)績(jī)“暴雷”
    ASML業(yè)績(jī)“暴雷”
    ASML營(yíng)收額的增長(zhǎng)勢(shì)頭可能將迎來(lái)急剎車。荷蘭費(fèi)爾德霍芬時(shí)間10月15日，ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào)，財(cái)報(bào)顯示，2024年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元，環(huán)比增長(zhǎng)19.6%；凈利潤(rùn)達(dá)20.77億歐元，環(huán)比增長(zhǎng)31.6%，二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來(lái)的歷史新高。然而，該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元，環(huán)比減少52.7%，不及市場(chǎng)預(yù)期的54億歐元的一半，接近2021年第一季度以來(lái)的歷史低值（2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元）。
  • ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額75億歐元，凈利潤(rùn)為21億歐元
    ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額75億歐元，凈利潤(rùn)為21億歐元
    阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào)。2024年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤(rùn)達(dá)21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280億歐元。ASML還預(yù)計(jì)，2025年的凈銷售額在300億至
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡(jiǎn)化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線以超過(guò)初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來(lái)說(shuō)，提了高到了原來(lái)的10倍，可說(shuō)是一大突破。
  • 從EUV光刻機(jī)到你的牙齒：悄然發(fā)力的中國(guó)3D打印
    從EUV光刻機(jī)到你的牙齒：悄然發(fā)力的中國(guó)3D打印
    從2納米到40微米，從光刻機(jī)到人的牙齒，有著怎樣的關(guān)系？在小紅書上，有一批“網(wǎng)紅”正在爭(zhēng)相試用一款操作起來(lái)“像做美甲一樣便捷”的牙齒貼面產(chǎn)品。
  • ASML的EUV光刻機(jī)型號(hào)匯總
    ASML的EUV光刻機(jī)型號(hào)匯總
    上期文章中，我們列舉了ASML的G線，i線光刻機(jī)型號(hào)，見文章：ASML的光刻機(jī)型號(hào)匯總(上)本期，我們要羅列下ASML的EUV光刻機(jī)的型號(hào)及主要技術(shù)參數(shù)。
  • EUV光刻機(jī)有多牛？
    華為的麒麟990系列芯片、蘋果手機(jī)的A14處理器（5納米工藝）以及M1處理器以及三星的Exynos 9825處理器都是用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)出來(lái)的。換句話說(shuō)，7納米以下的芯片，沒有EUV光刻機(jī)造不出來(lái)！
  • 近500億元！EUV光刻機(jī)巨頭掙翻了
    近500億元！EUV光刻機(jī)巨頭掙翻了
    7月17日，全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績(jī)。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤(rùn)為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預(yù)訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預(yù)訂額。不過(guò)相比去年同期的營(yíng)收69億歐元、凈利潤(rùn)19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績(jī)不及當(dāng)時(shí)水平。
  • 存儲(chǔ)市場(chǎng)吹響EUV光刻機(jī)集結(jié)號(hào)
    存儲(chǔ)市場(chǎng)吹響EUV光刻機(jī)集結(jié)號(hào)
    AI浪潮下，存儲(chǔ)市場(chǎng)DRAM芯片正朝著更小、更快、更好的方向發(fā)展，EUV光刻機(jī)擔(dān)當(dāng)重任。三大DRAM原廠中有兩家已經(jīng)引進(jìn)EUV光刻機(jī)生產(chǎn)DRAM芯片，美光相對(duì)保守，不過(guò)也于今年將在1γ（1-gamma）制程進(jìn)行EUV技術(shù)試產(chǎn)，三大原廠集結(jié)，存儲(chǔ)市場(chǎng)EUV光刻機(jī)時(shí)代開啟。
  • 晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價(jià)或超7.24億美元
    晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價(jià)或超7.24億美元
    近日，據(jù)朝鮮日?qǐng)?bào)報(bào)道，阿斯麥（ASML）將針對(duì)1納米以下制程，計(jì)劃在2030年推出更先進(jìn)Hyper-NA EUV光刻機(jī)設(shè)備，但可能超過(guò)7.24億美元一臺(tái)的售價(jià)會(huì)讓臺(tái)積電、三星、英特爾等半導(dǎo)體晶圓代工廠商望而卻步。
  • EUV光刻機(jī)變數(shù)陡增
    EUV光刻機(jī)變數(shù)陡增
    最近，關(guān)于EUV光刻機(jī)，又有勁爆消息傳出。據(jù)外媒報(bào)道，有消息人士透露，由于美國(guó)施壓，ASML向荷蘭政府官員保證，在特殊情況下，該公司有能力遠(yuǎn)程癱瘓（remotely disable）臺(tái)積電使用的EUV光刻機(jī)。知情人士稱，ASML擁有“鎖死開關(guān)”（kill switch），可以遠(yuǎn)端強(qiáng)制關(guān)閉EUV。
  • ASML最先進(jìn)的光刻機(jī)，花落誰(shuí)家？
    ASML最先進(jìn)的光刻機(jī)，花落誰(shuí)家？
    4月上旬，全球光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來(lái)幾年對(duì)于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點(diǎn)。ASML還計(jì)劃進(jìn)一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預(yù)計(jì)將于2026年左右發(fā)布。
  • High-NA EUV光刻機(jī)入場(chǎng)，究竟有多強(qiáng)？
    High-NA EUV光刻機(jī)入場(chǎng)，究竟有多強(qiáng)？
    光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個(gè)熱門話題。從早期的深紫外光刻機(jī)（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)；再到后來(lái)的極紫外光刻機(jī)（EUV）以其獨(dú)特的極紫外光源和更短的波長(zhǎng)，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機(jī)（High-NA）正式登上歷史舞臺(tái)，進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。
  • 史上最大光刻機(jī)拆箱視頻發(fā)布！
    史上最大光刻機(jī)拆箱視頻發(fā)布！
    3月7日?qǐng)?bào)道，最近英特爾芯片制造業(yè)務(wù)一片向好，狀態(tài)可謂是春風(fēng)得意、喜上眉梢，一大原因是，價(jià)值近4億美元的全球第一臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入了英特爾的工廠。
  • 2nm情結(jié)
    2nm情結(jié)
    一輛載著印有“ASML”LOGO保護(hù)箱的卡車駛?cè)朊绹?guó)俄勒岡州（Oregon）的英特爾希爾斯伯勒（Hillsboro）園區(qū)。箱身上綁著紅繩，并系了蝴蝶結(jié)，里面是荷蘭ASML研制出的全球首臺(tái)高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High NA EUV）的一部分。
  • 沒有EUV光刻機(jī)，也造不了5nm、3nm，國(guó)產(chǎn)芯片如何突破？
    沒有EUV光刻機(jī)，也造不了5nm、3nm，國(guó)產(chǎn)芯片如何突破？
    潮流如暗流，迅猛而至，行業(yè)龍頭也被沖擊的手忙腳亂。當(dāng)半導(dǎo)體加工的制程微縮游戲走到盡頭，先進(jìn)封裝，逐漸成為芯片行業(yè)的勝負(fù)手。年初，任誰(shuí)也料想不到，今年的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)會(huì)如此的冰火兩重天。在今年整個(gè)芯片行業(yè)由于去庫(kù)存滿目哀鴻遍野之際，英偉達(dá)的AI芯片卻一顆難求，國(guó)內(nèi)互聯(lián)網(wǎng)大佬們親自飛往英偉達(dá)總部加州，只為多求幾顆A800和H800。
  • 美國(guó)官方報(bào)告：深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展
    美國(guó)官方報(bào)告：深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展
    2022年，半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模約為0.6萬(wàn)億美元，商業(yè)分析師預(yù)計(jì)到2030年將翻一番1.0萬(wàn)億美元至1.3萬(wàn)億美元。半導(dǎo)體制造業(yè)的大幅增長(zhǎng)可以在光刻工藝中體現(xiàn)出。光刻是一種圖案化過(guò)程，將平面設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)移到晶圓基板的表面，創(chuàng)造復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，如晶體管和線互連。這是通過(guò)通過(guò)復(fù)雜的多步過(guò)程選擇性地將光敏聚合物或光刻膠暴露于特定波長(zhǎng)的光下來(lái)完成的。最近，光刻技術(shù)的進(jìn)步在生產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體方面創(chuàng)造了競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，使人工智能（AI）、5G電信和超級(jí)計(jì)算等最先進(jìn)的技術(shù)成為可能。因此，先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)會(huì)影響國(guó)家安全和經(jīng)濟(jì)繁榮。
  • 光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代任重道遠(yuǎn)
    光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代任重道遠(yuǎn)
    日前，ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采訪時(shí)表示，盡管供應(yīng)商出現(xiàn)了一些阻礙，但公司仍會(huì)按照此前設(shè)定的計(jì)劃，在今年年底之前交付 High NA EUV 機(jī)器。就此，一些自媒體認(rèn)為，是國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)快要商用了，所以ASML決定松口賣機(jī)器。同時(shí)，網(wǎng)上盛傳各種小道消息，言之鑿鑿國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)就要逆襲了。

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