EUV光刻

• 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
  

  8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡(jiǎn)化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線以超過(guò)初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來(lái)說(shuō)，提了高到了原來(lái)的10倍，可說(shuō)是一大突破。

  芯智訊

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  08/12 15:23

  EUV光刻機(jī) EUV光刻
• 從大型EUV光刻廠的熱炒聊起
  

  最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚(yáng)揚(yáng)，大概意思是中國(guó)可以通過(guò)這個(gè)加速器來(lái)產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時(shí)可以給各種芯片制程來(lái)使用，徹底解決光刻機(jī)的技術(shù)壁壘。公眾對(duì)這個(gè)話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國(guó)技術(shù)封鎖，對(duì)清華的研究充滿信心，希望我國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國(guó)際領(lǐng)先水平。至于這個(gè)SSMB技術(shù)的細(xì)節(jié)，我相信絕大部分公眾并無(wú)法判斷，即使在專業(yè)的半導(dǎo)體群中，大部分人也說(shuō)不清楚。

  土人觀芯

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  2023/09/20

  光刻機(jī) EUV光刻
• 提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標(biāo)之一
  光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機(jī)是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。

  中國(guó)電子報(bào)

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  2022/11/14

  EUV光刻
• ASML的未來(lái)：光明與風(fēng)險(xiǎn)并存
  很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟(jì)中不斷增加的半導(dǎo)體需求中獲益。

  Astroys

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  2021/12/24

  ASML EUV光刻
• 半導(dǎo)體｜日本廠商在EUV半導(dǎo)體設(shè)備中市占逐步提升
  CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，極紫外光刻（EUV）在半導(dǎo)體線路的微縮化進(jìn)程中極為重要，在“極紫外光刻曝光”相關(guān)工序中，日本設(shè)備廠家的存在感在逐步提升。荷蘭ASML獨(dú)霸關(guān)鍵曝光設(shè)備市場(chǎng)，日本企業(yè)則在檢測(cè)、感光材料涂布、成像等相關(guān)設(shè)備方面占有較高的市場(chǎng)份額。然而，一臺(tái)尖端的EUV相關(guān)設(shè)備價(jià)格高昂，對(duì)半導(dǎo)體廠家來(lái)說(shuō)是較重的投資負(fù)擔(dān)。長(zhǎng)期

  CINNO Research

  133

  2021/01/27

  5G 半導(dǎo)體設(shè)備
• DNP成功研發(fā)5nm EUV光掩膜工藝，為半導(dǎo)體不斷細(xì)微化提供可靠支撐
  大日本印刷株式會(huì)社利用多電子光束繪制設(shè)備，研發(fā)了光掩膜的生產(chǎn)工藝，不僅可用于當(dāng)下最先進(jìn)的 EUV 光刻，還可用于 5 納米工藝。

  CINNO Research

  304

  2020/08/31

  5nm 硅晶圓
• 芯片破壁者（六.下）：摩爾定律的新世紀(jì)變局與無(wú)限火力
  摩爾定律的第一次續(xù)命，成功拉開(kāi)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的激烈競(jìng)爭(zhēng)。

  腦極體

  178

  2020/07/22

  英特爾 晶體管
• 半導(dǎo)體設(shè)備廠商Lam Research｜迎新財(cái)務(wù)模式，最大銷售額達(dá)175億美元
  不僅專注于已銷售設(shè)備的服務(wù)業(yè)務(wù)，還力求擴(kuò)大蝕刻和成膜市場(chǎng)、通過(guò)加入新市場(chǎng)在 SAM(Served Available Market)上獲得發(fā)展。

  CINNO Research

  137

  2020/03/18

  半導(dǎo)體設(shè)備 EUV光刻
• EUV、光刻膠、計(jì)算光刻等先進(jìn)光刻技術(shù)的桎梏和突破
  20世紀(jì)以來(lái)，在光學(xué)光刻技術(shù)努力突破分辨率“極限”的同時(shí)，國(guó)內(nèi)外相關(guān)企業(yè)、機(jī)構(gòu)都正在積極研究，包括EUV光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，計(jì)算光刻等內(nèi)容方向。

  李晨光

  129

  2018/11/08

  光刻機(jī) 光刻膠

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