【IEEE收錄、EI檢索】第六屆國際先進光刻技術(shù)研討會投稿報名進行中

本屆國際先進光刻技術(shù)研討會被IEEE收錄

會議投稿論文將送檢IEEE Xplore與EI

歡迎大家踴躍投稿報名！

摘要提交截止日期: ?2022.07.15

摘要接收通知日期: ?2022.08.15

全文稿件截止日期: ?2022.09.30

報 名 入 口

論 文 征 集

IWAPS致力于發(fā)表前沿的微電子制造技術(shù)研究成果。會議主題涵蓋先進半導體制造領(lǐng)域中從早期的理論和實驗，到工業(yè)化大規(guī)模量產(chǎn)的應用等內(nèi)容。包括但不局限于:

• 光刻

• 極紫外光刻?

• 新型技術(shù)

• 量測及缺陷檢測

• 設(shè)計工藝聯(lián)合優(yōu)化與可制造性設(shè)計

• 材料

• 工藝

會議投稿請?zhí)峤恢拎]箱：

iwaps_program@ime.ac.cn

本屆會議被IEEE收錄

論文將被送檢IEEE Xplore及EI

我們會在全文版本送檢IEEE Xplore與EI的同時將推薦優(yōu)秀論文到《Journal of Microelectronic Manufacturing》期刊，作者可以對會議全文擴充理論或?qū)嶒瀮?nèi)容后投稿到期刊。

摘要必須清楚地描述論文的性質(zhì)、研究主題、研究內(nèi)容、組織結(jié)構(gòu)、要點以及研究意義。且用英文撰寫。

摘要必須包括以下內(nèi)容：論文標題、關(guān)鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數(shù)不應超過500個單詞。對研究內(nèi)容的細節(jié)的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們建議在提交的摘要中使用圖表。

論文摘要模板下載地址：

https://www.iwaps.org/index/10

在截止日期之后提交的摘要將根據(jù)具體情況進行審議。

報 告 要 求

• 口頭報告

被選作進行口頭報告的作者，應當參加2022年的IWAPS 會議并用英文進行15分鐘與論文相關(guān)的技術(shù)報告。演講者應當預先提供其會議報告的PPT。

• 海報展示

被選作進行海報展示的作者，可于會議周期內(nèi)進行電子海報的展示與講解。

會 議 介 紹
近年來，中國集成電路產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展，基于這樣的形勢，國際先進光刻技術(shù)研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內(nèi)外半導體工業(yè)界、學術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術(shù)交流平臺，參會者可以就材料、設(shè)備、工藝、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。

本屆國際先進光刻技術(shù)研討會已被IEEE收錄，會議全文將送檢IEEE Xplore與EI。

主 辦 單 位

承 辦 單 位

協(xié) 辦 單 位

技 術(shù) 支 持

組 委 會

2017年IWAPS在北京

2018年IWAPS在廈門

2019年IWAPS在南京

2020年IWAPS在成都

2021年IWAPS在佛山

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