2023 | 第七屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)舉辦通知

第七屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)

（IWAPS 2023）

近年來，集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為世界各國(guó)越來越重視的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，尤其在中國(guó)，集成電路產(chǎn)業(yè)受到了前所未有的關(guān)注，并在政策和資本的推動(dòng)下獲得了蓬勃發(fā)展?；谶@樣的形勢(shì)，國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)應(yīng)運(yùn)而生。IWAPS為來自國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個(gè)技術(shù)交流平臺(tái)，參會(huì)者可以就材料、設(shè)備、工藝、測(cè)量、計(jì)算光刻和設(shè)計(jì)優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。

自2017年以來，IWAPS已經(jīng)在全國(guó)各地成功舉辦六屆。會(huì)議投稿、會(huì)議報(bào)告與參會(huì)人數(shù)逐年增加，行業(yè)反響熱烈，業(yè)已成為國(guó)內(nèi)高端光刻技術(shù)領(lǐng)域的重要會(huì)議。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收錄，接收論文將被送檢IEEE Xplore與EI。歡迎大家踴躍報(bào)名、投稿！

第七屆IWAPS將于2023年10月25-26日于浙江麗水舉行

請(qǐng)于2023年10月24日?qǐng)?bào)到

歡迎各位學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)屆的朋友蒞臨指導(dǎo)，積極投稿演講

參會(huì)名額有限，有意者請(qǐng)及時(shí)報(bào)名參會(huì)

官網(wǎng)報(bào)名鏈接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

掃碼報(bào)名

手機(jī)掃描二維碼，通過邀請(qǐng)函報(bào)名

-主辦單位-

-承辦單位-

-協(xié)辦單位-

-往屆精彩回顧-

鏈接：首屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)勝利閉幕

鏈接：第二屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)勝利閉幕

IWAPS 2019 南京

鏈接：第三屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)在南京開幕

IWAPS 2020 成都

鏈接：第四屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)在成都開幕

IWAPS 2021 佛山

鏈接：第五屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)在廣東佛山開幕

IWAPS 2022 北京 線上

鏈接：第六屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)順利閉幕

-征稿范圍-

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

-往年論文集-

IWAPS 2020：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding

IWAPS 2023 會(huì)議籌備工作已經(jīng)展開

更多信息，敬請(qǐng)關(guān)注會(huì)議官網(wǎng)

www.iwaps.org/cn

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