7月22日,據(jù)上交所披露公告顯示,北京華卓精科科技股份有限公司(以下簡稱:華卓精科)將于7月29日科創(chuàng)板首發(fā)上會。
華卓精科長期專注于納米級超精密測控技術,是國內(nèi)領先的集成電路制造裝備及其核心部件、精密/超精密運動系統(tǒng)及相關技術供應商。公司以光刻機雙工件臺這一超精密機械領域的尖端產(chǎn)品為核心,并以該產(chǎn)品的超精密測控技術為基礎,開發(fā)了晶圓級鍵合設備、激光退火設備等整機產(chǎn)品,以及精密運動系統(tǒng)、隔振器和靜電卡盤等部件衍生產(chǎn)品,應用領域覆蓋集成電路制造、超精密制造、光學、醫(yī)療、3C制造等行業(yè)。
光刻機雙工件臺獨供上海微電子
當前,光刻機主要被荷蘭ASML、日本尼康、日本佳能等外國廠商長期壟斷,其中ASML就獨占70%以上市場份額,其最先進的光刻機工藝制程為7nm。
雖然我國光刻機研發(fā)起步較,但在持續(xù)攻堅的努力下,國產(chǎn)光刻機龍頭企業(yè)上海微電子在低端光刻機市場占據(jù)了一定的市場地位,目前該公司最先進的光刻機工藝制程為90nm,預計2021-2022年交付第一臺28nm工藝制程的國產(chǎn)沉浸式光刻機。
需要指出的是,要實現(xiàn)光刻機的國產(chǎn)替代并不是上海微電子一家企業(yè)能夠單獨完成的,需要光刻產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的相互配合。光刻產(chǎn)業(yè)鏈可拆分為兩個部分,一是光刻機核心組件,包括光源、鏡頭、雙工作臺、浸沒系統(tǒng)等關鍵子系統(tǒng),二是光刻配套設施,包括光刻膠、光掩模版、涂膠顯影設備等。
其中,華卓精科主要為上海微電子提供光刻機雙工件臺,其主要功能是承載晶圓按照指定的運動軌跡做高速超精密運動并完成一系列曝光所需動作,包括上下片、對準、晶圓面型測量和曝光等。
不過,從華卓精科招股說明書來看,公司光刻機雙工件臺2017年和2018年營業(yè)收入分別是1521.37萬元、795萬元,占整體營業(yè)收入的比重較小,2019年卻沒有實現(xiàn)任何營收。這也意味著,2019年華卓精科沒有順利量產(chǎn)出貨光刻機雙工件臺。
數(shù)據(jù)來源:華卓精科招股說明書
對此,華卓精科表述,主要是目前光刻機雙工件臺仍處于小量定制生產(chǎn)階段,尚未實現(xiàn)規(guī)?;慨a(chǎn),所以對公司收入貢獻比較小。