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與非網(wǎng)7月5日訊 國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料廠商南大光電在互動(dòng)平臺(tái)上表示，公司旗下的ArF光刻膠產(chǎn)品拿到小批量訂單，不過(guò)他們沒(méi)有透露具體的客戶名單。
今年5月份，南大光電發(fā)表公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過(guò)認(rèn)證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求。
在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經(jīng)過(guò)曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，形成與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形。
當(dāng)前，市面上的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四種，ArF光刻膠是其中最高階的產(chǎn)品，其產(chǎn)品應(yīng)用的工藝跨度較廣，不管是高端的7nm，還是14nm，乃至90nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的芯片制造都需要用到這款材料。而全球光刻膠市場(chǎng)主要被JSR、信越化學(xué)等歐美日等國(guó)的企業(yè)所“瓜分”。
值得注意的是，在南大光電順利推出ArF光刻膠產(chǎn)品之后，越來(lái)越多投資機(jī)構(gòu)也注意到了南大光電這家企業(yè)。就在7月1日，財(cái)信證券還對(duì)這家企業(yè)給予推薦評(píng)級(jí)。截至7月2日收盤(pán)，南大光電報(bào)收36.52元/股。
此前南大光電曾在公告中表示，ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲(chǔ)芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計(jì)算芯片等）。
根據(jù)南大光電此前公告，ArF 光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期。隨著國(guó)內(nèi) IC 行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量。
早期因?yàn)楣饪棠z被壟斷，我國(guó)ArF的供給率都達(dá)不到5%，關(guān)于g線和i線的自給率都達(dá)不到20%，好在南大光電現(xiàn)在已經(jīng)成功突破了技術(shù)屏障，生產(chǎn)出了符合高端芯片的ArF光刻膠。
在技術(shù)屏障被打破的同時(shí)，也要打開(kāi)市場(chǎng)，否則技術(shù)不能變現(xiàn)，對(duì)于一個(gè)企業(yè)來(lái)說(shuō)沒(méi)有任何作用，而現(xiàn)在南大光電不僅突破了技術(shù)屏障，更是已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了訂單的突破，證明了一件事情，證明了我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展，并且告別了光刻機(jī)壟斷的局面！
訂單開(kāi)始之后，將向世界證明中國(guó)光刻膠的技術(shù)實(shí)力，讓世界知道我們光刻膠已經(jīng)在逐步崛起！
