如今,數(shù)據(jù)中心迫切需要能夠高效轉(zhuǎn)換電能的功率半導(dǎo)體,以降低成本并減少排放。更高的電源轉(zhuǎn)換效率意味著發(fā)熱量減少,從而降低散熱成本。
電源系統(tǒng)需要更低的系統(tǒng)總成本和緊湊的尺寸;因此必須提高功率密度,尤其是數(shù)據(jù)中心的平均功率密度正在迅速攀升。從十年前的每個1U機(jī)架通常只有5 kW,增加到現(xiàn)在的20 kW、30 kW 或更高。
圖1:數(shù)據(jù)中心供電:從電網(wǎng)到GPU
電源供應(yīng)器(PSU)還必須滿足數(shù)據(jù)中心行業(yè)的特定需求。人工智能數(shù)據(jù)中心的PSU應(yīng)滿足嚴(yán)格的Open Rack V3 (ORV3) 基本規(guī)范,要求30%到100%負(fù)載下的峰值效率達(dá)到97.5%以上,并且10%到30%負(fù)載下的最低效率達(dá)到94%。
電源拓?fù)?/strong>
作為PSU中交流/直流轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵部分,在功率因數(shù)校正(PFC)級實(shí)現(xiàn)高能效至關(guān)重要,該級負(fù)責(zé)調(diào)整輸入電流,從而最大限度地提高有用功率與總輸入功率的比率。為滿足IEC 61000-3-2 等法規(guī)中的電磁兼容性(EMC)標(biāo)準(zhǔn),并確保符合ENERGY STAR?等能效規(guī)范,PFC設(shè)計是關(guān)鍵所在。
在許多應(yīng)用中,最佳方法是采用“圖騰柱”PFC拓?fù)洌▓D2),這種拓?fù)渫ǔS糜跀?shù)據(jù)中心3kW 至8kW 系統(tǒng)的PFC功能塊。圖騰柱PFC級基于MOSFET,通過移除體積大且損耗高的橋式整流器,提高了交流電源的能效和功率密度。
圖2:圖騰柱PFC拓?fù)?/p>
為了達(dá)到97.5%的能效,圖騰柱PFC需要使用碳化硅(SiC)等“寬禁帶”半導(dǎo)體的MOSFET。如今,所有PFC級均采用SiCMOSFET 作為快速開關(guān)橋臂,并使用硅基超級結(jié)MOSFET作為相位或慢速橋臂。
與超級結(jié)MOSFET等硅(Si)MOSFET 相比,SiC MOSFET 具有更好的性能和更高的能效。它們在高溫下表現(xiàn)出色,具有更強(qiáng)的穩(wěn)健性,并能在更高的開關(guān)頻率下運(yùn)行。
與SiMOSFET 相比,SiC MOSFET 在輸出電容中存儲的能量(EOSS)更少,這在PFC級的低負(fù)載條件下至關(guān)重要,因?yàn)樵诘拓?fù)載運(yùn)行下,開關(guān)損耗在整個MOSFET功耗中占據(jù)了主要部分。較低的EOSS和柵極電荷可最大限度地減少開關(guān)過程中的能量損失,從而提高圖騰柱PFC快速橋臂的能效。此外,由于SiC器件具有出色的熱導(dǎo)率,相當(dāng)于硅基器件的三倍,因此與Si MOSFET 相比,SiC MOSFET 具有更好的正溫度系數(shù)RDS(ON)。
這意味著,SiC MOSFET 的導(dǎo)通電阻在結(jié)溫升高時增幅小于Si MOSFET。在175oC等高溫下,SiC MOSFET 的導(dǎo)通損耗較低,而導(dǎo)通損耗在總功率損耗中占據(jù)主要部分。
下表比較了目前市面上的650V超級結(jié)MOSFET與安森美(onsemi)650V SiC MOSFET 的關(guān)鍵參數(shù)。
SiC MOSFET 助力實(shí)現(xiàn)高能效
在眾多SiC MOSFET 產(chǎn)品中,安森美650 V M3S EliteSiC MOSFET(包括NTBL032N065M3S和NTBL023N065M3S)提供了出眾的開關(guān)性能,并顯著提高了超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心的PFC和LLC級能效。
M3S EliteSiC 技術(shù)性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過其前代產(chǎn)品,其中柵極電荷降低了50%,EOSS降低了44%,輸出電容中存儲的電荷(QOSS)也減少了44%。用于PFC級的硬開關(guān)拓?fù)渲袝r,這個出色的EOSS數(shù)值能夠提高輕載下的系統(tǒng)能效。此外,較低的QOSS簡化了LLC級軟開關(guān)拓?fù)涞闹C振儲能電感設(shè)計。
得益于出色的開關(guān)性能和能效,M3S EliteSiC MOSFET 散發(fā)的熱量更少。此外,MOSFET的柵極電荷Qg在同電壓等級的產(chǎn)品中表現(xiàn)出色,能夠降低柵極驅(qū)動損耗。同時,出色的Qgs和Qgd也有效降低了開關(guān)導(dǎo)通和關(guān)斷損耗。
圖3:650V M3S EliteSiC MOSFET 的優(yōu)勢
在LLC功能塊中,當(dāng)VDS從關(guān)斷狀態(tài)轉(zhuǎn)換到二極管導(dǎo)通狀態(tài)時,需要對輸出電容進(jìn)行放電。為了快速完成這一過程,必須使用低瞬態(tài)輸出電容。瞬態(tài)COSS之所以重要,是因?yàn)樗梢宰畲笙薅鹊販p少諧振儲能的循環(huán)損耗,并縮短LLC的死區(qū)時間,從而減少初級側(cè)的循環(huán)損耗。低導(dǎo)通電阻能夠最大限度地減少導(dǎo)通損耗,而低EOFF有助于最大限度地減少開關(guān)損耗。
總體而言,提升系統(tǒng)能效是最重要的性能標(biāo)準(zhǔn),這使得SiC MOSFET 成為數(shù)據(jù)中心PFC和LLC級的首選方案。
相較于市場上的眾多其他SiC MOSFET 產(chǎn)品,基于相同的RDS(ON),安森美650V EliteSiC MOSFET 在成本、EMI、高溫運(yùn)行和開關(guān)性能方面,可與超級結(jié)MOSFET競爭。650V M3S EliteSiC MOSFET 的RDS(ON)低于相同封裝的超級結(jié)MOSFET,這提升了LLC拓?fù)涞南到y(tǒng)能效,同時,由于其開關(guān)損耗遠(yuǎn)低于硅基替代品,因此性能表現(xiàn)優(yōu)于后者。
圖4:M3S 650V EliteSiC MOSFET 產(chǎn)品組合