器件失效分析(Failure Analysis,F(xiàn)A)關(guān)系到集成電路的質(zhì)量控制、產(chǎn)品可靠性以及產(chǎn)量?jī)?yōu)化。在分析過程中,工程師必須準(zhǔn)確定位失效源頭,分析失效機(jī)理并找到解決方法。其中,Nano-probe(納米探針)作為一項(xiàng)關(guān)鍵的微納級(jí)分析工具,廣泛應(yīng)用于先進(jìn)工藝制程中,如5nm、7nm、16nm等。
1. 什么是Nano-probe?
Nano-probe,顧名思義,是一種基于納米尺度的探針技術(shù),能夠在極小的區(qū)域內(nèi)對(duì)特定節(jié)點(diǎn)進(jìn)行電氣特性測(cè)試。在集成電路的失效分析中,Nano-probe設(shè)備可以直接接觸芯片內(nèi)部的金屬層或晶體管節(jié)點(diǎn),通過微小探針來測(cè)量電流、電壓等參數(shù),從而幫助工程師分析器件的電氣特性與異常情況。
這種技術(shù)通常用于以下兩種主要的場(chǎng)景:
逐層分析(Delayering):通過逐層去除芯片的金屬層或介質(zhì)層,使Nano-probe能夠直接接觸到目標(biāo)區(qū)域的金屬節(jié)點(diǎn)或晶體管的源極、漏極和柵極。
局部電氣特性測(cè)試:在特定的電路節(jié)點(diǎn)上進(jìn)行精確的電氣測(cè)試,捕捉可能的電路異常,例如電流泄漏、開路或短路等問題。
2. Nano-probe 在失效分析中的作用
在半導(dǎo)體芯片的失效分析過程中,尤其是先進(jìn)工藝制程產(chǎn)品(如5nm、7nm、16nm等)的分析,傳統(tǒng)的分析方法可能已經(jīng)難以滿足需求。晶體管的尺寸越來越小,電路結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,因此Nano-probe在失效分析中的作用變得越來越重要。
具體來說,Nano-probe在失效分析中的作用可以從以下幾個(gè)方面來說明:
(1)精準(zhǔn)定位故障點(diǎn)
在集成電路的分析過程中,工程師通常需要在極其復(fù)雜的電路中找到失效的源頭。失效可能來自晶體管、金屬互連、柵極等多個(gè)層次,而Nano-probe能夠通過逐層測(cè)試,對(duì)特定區(qū)域的電氣特性進(jìn)行詳細(xì)分析,從而精準(zhǔn)定位故障點(diǎn)。例如,在上述16nm工藝制程案例中,Nano-probe被用于SRAM的某個(gè)單個(gè)Bit cell區(qū)域,通過版圖分析和逐層去除工藝,Nano-probe能夠定位到M0OD/M0PO層的一個(gè)NMOS器件,發(fā)現(xiàn)其gate漏電偏大,最終確認(rèn)工藝質(zhì)量問題。
(2)逐層分析能力
現(xiàn)代半導(dǎo)體芯片包含多達(dá)13層甚至更多的金屬互連層,失效問題可能發(fā)生在不同的金屬層之間。Nano-probe能夠逐層剝離芯片中的金屬和介質(zhì)層,并在每一層進(jìn)行測(cè)試,從而確定問題發(fā)生的具體層次。在逐層剝離的過程中,Nano-probe通過精細(xì)的探測(cè)能力能夠確保電氣特性測(cè)試的準(zhǔn)確性,減少誤判的可能性。
(3)器件電氣特性測(cè)試
Nano-probe允許對(duì)特定器件或電路節(jié)點(diǎn)進(jìn)行電氣特性測(cè)試。它能夠通過微小的探針直接接觸到晶體管或金屬互連層的某個(gè)具體節(jié)點(diǎn),測(cè)量電流、電壓、導(dǎo)電阻等關(guān)鍵參數(shù),從而幫助工程師發(fā)現(xiàn)電氣異常。例如,在7nm工藝制程通信產(chǎn)品的案例中,Nano-probe被用于檢測(cè)失效信號(hào)鏈路,最終發(fā)現(xiàn)某個(gè)器件的Idsat(飽和電流)低于正常值,幫助工程師進(jìn)一步確認(rèn)問題所在。
(4)檢測(cè)小規(guī)模缺陷
隨著晶體管尺寸的縮小,工藝制程中的缺陷越來越微小,甚至在微觀下難以觀察。Nano-probe技術(shù)的高精度探測(cè)能力使其能夠檢測(cè)到極小的缺陷,例如金屬互連層中的空洞、裂紋,甚至是晶體管內(nèi)的原子級(jí)失效問題。通過結(jié)合FIB(聚焦離子束)、TEM(透射電子顯微鏡)等技術(shù),Nano-probe可以提供失效區(qū)域的電氣和物理特性分析,幫助工程師找到根本原因。
3. Nano-probe 技術(shù)在器件失效分析中的優(yōu)勢(shì)
Nano-probe技術(shù)之所以被廣泛應(yīng)用于器件失效分析,主要因?yàn)樗邆涠囗?xiàng)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì):
(1)超高分辨率
Nano-probe技術(shù)能夠在納米級(jí)別對(duì)電路節(jié)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)試,其探針直徑極小,通??梢赃_(dá)到10納米或更小的尺寸,能夠非常精確地接觸到晶體管的源極、漏極、柵極等區(qū)域。這種高分辨率確保了測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性,并能有效應(yīng)對(duì)先進(jìn)制程工藝中晶體管結(jié)構(gòu)的微縮挑戰(zhàn)。
(2)非破壞性測(cè)試
傳統(tǒng)的失效分析方法可能需要破壞芯片的物理結(jié)構(gòu),才能夠測(cè)試到失效點(diǎn)。而Nano-probe可以通過逐層去除芯片中的材料,保留必要的電路結(jié)構(gòu),在進(jìn)行電氣測(cè)試的同時(shí)盡量減少對(duì)芯片的破壞。這使得工程師能夠在不完全破壞芯片的前提下完成精密測(cè)試,保留更多的物理信息以供后續(xù)分析。
(3)靈活性高
Nano-probe能夠靈活適應(yīng)不同的分析需求,無論是對(duì)于電路級(jí)別的全局失效分析,還是局部器件的特性測(cè)試,Nano-probe都能提供可靠的技術(shù)支持。工程師可以根據(jù)失效分析的具體需求,選擇不同的測(cè)試方法和策略,充分發(fā)揮Nano-probe的靈活性和多樣化功能。
4. 結(jié)合其他分析技術(shù)的應(yīng)用
在失效分析過程中,Nano-probe通常與其他分析技術(shù)相結(jié)合,以提高分析的準(zhǔn)確性和效率。常見的組合包括:
(1)FIB(聚焦離子束)
FIB技術(shù)可以用于局部區(qū)域的樣品制備,通過精確切割芯片的某一部分,使Nano-probe能夠更加精準(zhǔn)地接觸到目標(biāo)區(qū)域。這在分析復(fù)雜工藝制程中的缺陷時(shí)尤為重要,特別是在需要在納米級(jí)別定位和切割時(shí)。
(2)TEM(透射電子顯微鏡)
通過TEM技術(shù),工程師能夠獲得芯片材料結(jié)構(gòu)的詳細(xì)信息,包括晶體管的柵氧層厚度、金屬互連層的空洞或裂紋等。而Nano-probe在TEM的基礎(chǔ)上提供了電氣特性測(cè)試,使工程師能夠同時(shí)了解物理結(jié)構(gòu)和電氣特性。
(3)EMMI/OBIRCH(電子發(fā)射顯微鏡/光學(xué)電流發(fā)射顯微鏡)
這些技術(shù)能夠幫助工程師找到失效區(qū)域中的發(fā)光或熱異常點(diǎn),而Nano-probe則可以進(jìn)一步測(cè)試這些異常點(diǎn)的電氣特性,驗(yàn)證其是否為失效的主要原因。
5. 應(yīng)用實(shí)例分析
例如,在16nm制程的網(wǎng)絡(luò)產(chǎn)品失效分析案例中,Nano-probe幫助工程師將芯片逐層去除至M0OD/M0PO層,并發(fā)現(xiàn)bit區(qū)域的NMOS gate存在漏電問題,最終通過FIB和TEM進(jìn)一步確認(rèn)了工藝質(zhì)量問題。這一過程中,Nano-probe的精確定位和逐層分析能力是找到問題的關(guān)鍵。
在14nm通信產(chǎn)品的失效分析中,Nano-probe通過對(duì)特定信號(hào)鏈路的電氣特性測(cè)試,發(fā)現(xiàn)了器件Idsat異常,幫助工程師定位到了失效的根本原因,并推動(dòng)了工藝管控的改進(jìn)。
6. 未來的發(fā)展方向
隨著半導(dǎo)體工藝的不斷進(jìn)步,器件結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,晶體管尺寸越來越小,失效分析的難度也不斷增加。Nano-probe技術(shù)未來的發(fā)展方向主要集中在以下幾個(gè)方面:
更高的分辨率:未來的Nano-probe設(shè)備將具備更高的分辨率,能夠在更小的區(qū)域內(nèi)進(jìn)行更精確的電氣測(cè)試,滿足3nm及以下制程的分析需求。
自動(dòng)化程度提高:隨著人工智能技術(shù)的發(fā)展,Nano-probe設(shè)備將逐漸實(shí)現(xiàn)更高的自動(dòng)化水平,減少人為干預(yù),提高分析效率。
多功能集成:未來的Nano-probe設(shè)備將與更多的分析技術(shù)集成,例如與X射線分析、超聲波分析等結(jié)合,進(jìn)一步提高分析的全面性和準(zhǔn)確性。
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