加入星計(jì)劃,您可以享受以下權(quán)益:

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴(kuò)散
  • 作品版權(quán)保護(hù)
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長(zhǎng)期合作伙伴
立即加入
  • 正文
    • I. 動(dòng)機(jī)
    • II. 簡(jiǎn)介
    • III. 工藝仿真
    • IV. 三維模型制造設(shè)備
    • V. 仿真
  • 相關(guān)文件
  • 相關(guān)推薦
  • 電子產(chǎn)業(yè)圖譜
申請(qǐng)入駐 產(chǎn)業(yè)圖譜

光刻過程的工藝仿真-西門子Tecnomatix Process Simulate

08/26 10:56
3476
閱讀需 8 分鐘
加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點(diǎn)資訊討論

本項(xiàng)目專注于晶圓光刻過程的仿真,采用先進(jìn)的機(jī)器人技術(shù)和自動(dòng)化手段,提高精度、一致性和效率。該系統(tǒng)包括一個(gè)帶有抓手的機(jī)械臂以及四個(gè)關(guān)鍵設(shè)備:加熱板、旋涂機(jī)、晶圓清洗機(jī)和無(wú)掩模直接寫入對(duì)準(zhǔn)儀(MLA150),這些設(shè)備都集成在一個(gè)中央工作區(qū)周圍。我們使用西門子Tecnomatix Process Simulate提供的詳細(xì)3D仿真環(huán)境來(lái)建模和優(yōu)化制造過程。仿真涵蓋了17個(gè)相互連接的步驟,每個(gè)步驟都由可編程邏輯控制器(PLC)控制,確保操作無(wú)縫進(jìn)行并保持高生產(chǎn)質(zhì)量。該方法旨在減少人力資源,降低生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn),并確保在制造約瑟夫森參量放大器(JPA)時(shí)達(dá)到最高質(zhì)量和可靠性標(biāo)準(zhǔn)。該項(xiàng)目強(qiáng)調(diào)了數(shù)字化制造解決方案在現(xiàn)代光刻中的潛力,為未來(lái)的應(yīng)用提供了一個(gè)可擴(kuò)展且高效的模型。

I. 動(dòng)機(jī)

在當(dāng)代制造業(yè)中,機(jī)器人流程和自動(dòng)化備受重視,因?yàn)樗鼈兙哂袠O高的精度和在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持穩(wěn)定效率的能力。因此,我認(rèn)為在高度重復(fù)性的任務(wù)中用機(jī)器人流程和自動(dòng)化代替人工勞動(dòng)。這一轉(zhuǎn)變已經(jīng)在特斯拉汽車制造工廠得以實(shí)施,該工廠需要高度的精度和一致性。汽車制造商在各種生產(chǎn)過程中越來(lái)越依賴工業(yè)機(jī)器人來(lái)實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo)。在我的工作中,負(fù)責(zé)實(shí)驗(yàn)室中約瑟夫森參量放大器(JPA)開發(fā)所需的光刻工藝。光刻的質(zhì)量對(duì)于JPA的制造至關(guān)重要,因?yàn)樵S多參數(shù)會(huì)影響其性能。光刻精度和一致性的提高可以減少JPA的性能波動(dòng)。鑒于光刻過程的重復(fù)性及其對(duì)不可控參數(shù)的敏感性,我提議開發(fā)一個(gè)利用機(jī)械臂的晶圓光刻過程仿真。這個(gè)方法旨在提高精度和一致性,同時(shí)減少對(duì)人力資源的需求。

II. 簡(jiǎn)介

光刻工藝

本部分專門介紹了使用直接寫入無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)儀進(jìn)行晶圓光刻的成熟技術(shù)。

晶圓準(zhǔn)備

在制造的初始階段,厚度為500 的2英寸硅片作為基板,如圖1(a)所示。該硅片可以容納最多57個(gè)的芯片。首要步驟是仔細(xì)清潔晶圓,以去除任何殘留的保護(hù)性光刻膠和多余的顆粒,這對(duì)于優(yōu)化旋涂至關(guān)重要。為了確保徹底清潔,晶圓經(jīng)過丙酮和異丙醇的交替沖洗。

旋涂光刻膠

接下來(lái)的階段是旋涂光刻膠。在電子束光刻中,實(shí)現(xiàn)一層均勻的電子敏感性光刻膠是至關(guān)重要的,這通常通過旋涂來(lái)完成。少量光刻膠(具體為AZ5214E)均勻分布在樣品上,并通過高速旋轉(zhuǎn)使其均勻涂布,如圖1(b)中的紅色部分所示。在我們的方法中,光刻膠層的厚度約為1-2μm。每次旋涂后,晶圓需要在90°C下烘烤3分鐘,以去除殘留的溶劑并固化光刻膠。

直接寫入無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)儀

在接下來(lái)的階段,樣品經(jīng)過直接寫入無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)儀處理,此時(shí)它會(huì)暴露在激光下。激光沉積特定的電荷劑量,形成所需的圖案,如圖1(c)所示。激光的作用會(huì)打斷光刻膠中的共聚物鏈。曝光后,晶圓被浸入顯影液中并攪拌60秒。這個(gè)過程會(huì)選擇性地去除光刻膠的曝光部分,從而在基板上顯現(xiàn)出所需的圖案。

(a) (b) (c)

圖1. 光刻工藝流程

(a)2英寸硅片基板。(b) 覆蓋有光刻膠層(紅色)的晶圓,厚度約為1μm。 (c) 根據(jù)布局設(shè)計(jì),用激光去除光刻膠。

III. 工藝仿真

西門子Tecnomatix Process Simulate是一款功能強(qiáng)大的數(shù)字化制造解決方案,旨在通過3D環(huán)境驗(yàn)證制造過程。該軟件通過在產(chǎn)品生命周期中虛擬驗(yàn)證概念,加快了產(chǎn)品上市時(shí)間。Process Simulate利用3D數(shù)據(jù),促進(jìn)復(fù)雜制造過程的虛擬驗(yàn)證、優(yōu)化和調(diào)試,從而實(shí)現(xiàn)更快的產(chǎn)品推出和更高的生產(chǎn)質(zhì)量。

Tecnomatix Process Simulate的關(guān)鍵功能包括3D仿真、碰撞檢測(cè)、裝配和機(jī)器人路徑規(guī)劃、資源建模以及人體工程學(xué)分析。它還支持詳細(xì)的機(jī)器人編程和虛擬調(diào)試,確保機(jī)械和電氣生產(chǎn)過程的全面驗(yàn)證。該軟件能夠模擬人類任務(wù)、可達(dá)范圍和視野窗口,提升人體工程學(xué)和安全性。

使用Tecnomatix Process Simulate的好處顯著。它通過早期發(fā)現(xiàn)設(shè)計(jì)問題減少更改成本,減少物理原型的需求,通過虛擬驗(yàn)證優(yōu)化周期時(shí)間。該軟件通過模擬現(xiàn)實(shí)的過程提高工藝質(zhì)量,并支持在虛擬環(huán)境中進(jìn)行生產(chǎn)調(diào)試的早期驗(yàn)證。這種早期驗(yàn)證通過模擬各種制造場(chǎng)景降低了生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)。

Process Simulate與制造主干系統(tǒng)完全集成,使工程師能夠高效地重用、創(chuàng)建和驗(yàn)證過程。其先進(jìn)的3D環(huán)境和可擴(kuò)展性為從裝配到人工操作和機(jī)器人應(yīng)用的制造過程提供了詳細(xì)的見解。通過利用3D掃描,Process Simulate提高了仿真精度,加快了建模過程,從而最終提升了制造過程驗(yàn)證和優(yōu)化的效率和效果。

IV. 三維模型制造設(shè)備

在整個(gè)仿真設(shè)置中,配置了一臺(tái)帶有抓手的機(jī)械臂,以及四個(gè)設(shè)備:加熱板、旋涂機(jī)、晶圓清洗機(jī)和無(wú)掩模直接寫入對(duì)準(zhǔn)儀(MLA150)。此外,還包括一個(gè)2英寸的晶圓,如圖2所示。

a.? 機(jī)械臂 b.? 抓手
c.? 加熱板 d.? 旋涂機(jī)
e.? 晶圓清洗機(jī) f.? 無(wú)掩模直接寫入對(duì)準(zhǔn)儀

g.? 晶圓

圖2. 制造設(shè)備的三維模型

V. 仿真

為了平衡成本與效率,同時(shí)考慮到可用空間,我將主要設(shè)備布置在工作臺(tái)上無(wú)掩模直接寫入對(duì)準(zhǔn)儀的周圍,如圖3所示。

圖3. 仿真環(huán)境布局

整個(gè)晶圓光刻工藝包括17個(gè)步驟。每個(gè)步驟通過數(shù)字信號(hào)相互連接,并由可編程邏輯控制器(PLC)進(jìn)行控制。

圖4. 光刻工藝流程

VI. 參考文獻(xiàn)

[1] https://www.dailymail.co.uk/sciencetech/article-12869629/Tesla-robot-ATTACKS-engineer-companys-Texas-factory-violent-malfunction-leaving-trail-blood-forcing-workers-hit-emergency-shutdown-button.html

  • 光刻過程的工藝仿真.pdf
  • 光刻過程的工藝仿真演示.html
西門子

西門子

德國(guó)西門子股份公司(SIEMENS AG)創(chuàng)立于1847年,是全球電子電氣工程領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)。西門子自1872年進(jìn)入中國(guó),140余年來(lái)以創(chuàng)新的技術(shù)、卓越的解決方案和產(chǎn)品堅(jiān)持不懈地對(duì)中國(guó)的發(fā)展提供全面支持,并以出眾的品質(zhì)和令人信賴的可靠性、領(lǐng)先的技術(shù)成就、不懈的創(chuàng)新追求,確立了在中國(guó)市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。

德國(guó)西門子股份公司(SIEMENS AG)創(chuàng)立于1847年,是全球電子電氣工程領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)。西門子自1872年進(jìn)入中國(guó),140余年來(lái)以創(chuàng)新的技術(shù)、卓越的解決方案和產(chǎn)品堅(jiān)持不懈地對(duì)中國(guó)的發(fā)展提供全面支持,并以出眾的品質(zhì)和令人信賴的可靠性、領(lǐng)先的技術(shù)成就、不懈的創(chuàng)新追求,確立了在中國(guó)市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。收起

查看更多

相關(guān)推薦

電子產(chǎn)業(yè)圖譜