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射頻設計中的電容

2022/08/16
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我們在《射頻集成電路及系統(tǒng)設計(附下載鏈接)》給出了這本書的中文版購買鏈接,以及英文電子版的下載鏈接。今天我們開始一起來學習一下第一章的內容:射頻元件,這里介紹的射頻元件主要包括射頻電感電容以及由其做成的LC諧振回路。

首先介紹了電磁場的基本內容——麥克斯韋方程組。我們在前文的內容中介紹了多篇麥克斯韋方程組的內容,就如費曼在《費曼物理學講義》中介紹的一樣,“只要有了電和磁,就有了光”。也如我們在《一文讀懂“麥克斯韋方程組”的物理意義》介紹的一樣,只要有了麥克斯韋方程組,就有了電磁波,也有了我們現(xiàn)在的無線世界。本節(jié)就是從電磁場的角度引出了電感和電容的定義。之后從電路的角度討論了電容,電感和LC振蕩器,最后介紹了集成電感和電容的設計規(guī)則。

今天我們一起來學習一下第一章的電容部分。

NO.1 電容的定義
我們最早接觸電容是在中學物理中關于電路的部分。

電容器的定義為:兩個相互靠近的導體,中間夾一層不導電的絕緣物質,這就構成了電容器。當電容器的兩個極板之間加上電壓時,電容器就會儲存電荷。電容器的電容量在數(shù)值上等于一個導電極板上的電荷量與兩個極板之間的電壓之比。電容器的電容量的基本單位是法拉(F)。在電路圖中通常用字母C表示電容元件。

從這個定義來說,電容值的大?。?br />  

那么電容就是是指在給定電位差下自由電荷的儲藏量,表征容納儲存電荷的能力。一般來說,電荷在電場中會受力而移動,當導體之間有了介質,則阻礙了電荷移動而使得電荷累積在導體上,造成電荷的累積儲存,儲存的電荷量則稱為電容。

根據(jù)麥克斯韋方程中高斯電場定律,通過任意封閉空間的電通量等于該空間中的總電量。

 

電壓就是兩個平板的電勢差,就是沿著電場線方向把電荷Q從A點移動到B點產(chǎn)生的能量損失,即:
 

因此電容的表達式也就可以表述為:
 

通過上式可以看出電容與電荷量或者電勢無關,只與電場強度有關。從物理意義上來說,電容就是在電學系統(tǒng)中儲存電能或者等效電通量的能力。

我們接著回到電容的最初定義,C=Q/(V1-V2). 
 

上式是基于電場強度不變的均勻電場推導出來的電容公式。其中,UA-UB為兩平行板間的電勢差,εr為相對介電常數(shù),k為靜電力常量,S為兩板正對面積,d為兩板間距離。這個可以得出一個比較有意義的結論:電容正比于電容器面積和介電常數(shù)e,反比于電容器的距離d。也就是說,面積越大,介電常數(shù)越高,電容越大,距離越遠,電容越小。

任何靜電場都是由許多個電容組成,有靜電場就有電容,電容是用靜電場描述的。一般認為:孤立導體與無窮遠處構成電容,導體接地等效于接到無窮遠處,并與大地連接成整體。

但是在射頻電路中,這個電容的容抗值就不是恒定的,如同我們在《詳解射頻電路中的電阻,電容和電感》介紹的一樣,電容首先呈容抗特性然后在諧振點出容抗和感抗平衡,之后呈現(xiàn)感抗特性。
 

NO.2 電容的單位
電容的單位:法拉(Farad),簡稱法F,這個就是為了紀念偉大的法拉第先生。

但是法拉是個很大的單位,究竟有多大呢?

根據(jù)國際單位制的定義:1法拉等于秒的四次方安培的平方每千克每平方米。
 

當1法拉的電容器上的電壓以1伏特每秒(1 V/s)的速度變化時,就會產(chǎn)生1安培的電流。1法拉的電容上如果帶有1庫倫(1C)的電荷就會產(chǎn)生1伏特的勢能差。

當電容應用在射頻電路中時,這個法拉就更大了,實際應用中幾乎沒有直接用法拉這么大單位計量的電容器。
 

所以常用的電容單位通常有毫法(mF)、微法(μF)、納法(nF)和皮法(pF)等,他們之間的換算關系如下:
1法拉(F)

= 10^3毫法(mF)

=10^6微法(μF)

=10^9納法(nF)

=10^12皮法(pF)

NO.3 集成電容

電容的種類很多,根據(jù)電容器的制作工藝可分為:CBB電容(聚乙烯),滌綸電容、瓷片電容、云母電容獨石電容、電解電容鉭電容等。書中詳細介紹了一種利用MOS晶體管的柵電容來實現(xiàn)的一種高密度的電容,但其電容值非線性,如下圖所示,截取了書中所示的一個40nm常規(guī)NMOS管電容與柵極電壓的仿真曲線。根據(jù)柵極電壓不同,NMOS晶體管可以工作在積累區(qū)(Vgs<0),耗盡區(qū)(0<Vgs<Vth)或者反型區(qū)(Vgs>Vth)。

文中介紹是在積累區(qū)或者反型區(qū),NMOS的電容值達到最大,近似等于Cox。但是這兩個區(qū),電容值最大。但是在反型區(qū),器件的偏置電壓應該大于闕值電壓,這對于低電源電壓的場合不太適用,因此就有了下圖所示的積累型MOS電容,其電容特性曲線如下圖所示。

 

那么還有一種電容形式在CMOS工藝中較為常見,即梳狀電容,因為在CMOS工藝中,金屬線可以靠的很近,獲得很強的邊緣電場。

CMOS相關工藝制作的梳狀電容在書中有比較詳細的介紹。在工藝所允許的最小空間內走最小寬度的金屬線,構成梳狀結構,連接在每一端的多層金屬放在各自的頂層,進一步增加密度。

進一步,利用MOS的柵極電容和梳狀電容相連,進一步提高電場密度,增加電容值。

今天就學到這里,下次我們接著學射頻元件之電感部分。

參考文獻:

1,  法拉:https://baike.baidu.com/item/%E6%B3%95%E6%8B%89/27336?fr=aladdin

2, 電容:https://baike.baidu.com/item/%E7%94%B5%E5%AE%B9/146658?fr=aladdin

3,射頻集成電路及系統(tǒng)設計   Hooman Darabi

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