光刻膠｜三星與東進(jìn)半導(dǎo)體合作成功開發(fā)出EUV光刻膠

CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，東進(jìn)世美肯（Dongjin Semichem）與三星電子合作，成功開發(fā)出半導(dǎo)體超細(xì)微工藝必備材料--極紫外線(EUV)光刻膠(PR)。EUV PR是2019年日本對(duì)韓出口管制的三大品種之一。技術(shù)難度高，全部依靠國(guó)外進(jìn)口的產(chǎn)品，通過韓國(guó)企業(yè)間的相互合作成功實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化。

東進(jìn)世美肯華城園區(qū)鳥瞰圖

據(jù)悉，東進(jìn)世美肯最近通過了三星電子EUV 光刻膠從信賴性測(cè)試（品質(zhì)認(rèn)證）。對(duì)此比較了解的業(yè)界相關(guān)人士表示：“東進(jìn)世美肯在京畿道華城工廠開發(fā)出了EUV光刻膠，在三星電子華城EUV產(chǎn)線上進(jìn)行了測(cè)試，最終獲得了品質(zhì)認(rèn)證”，并稱“通過雙方的合作，可以迅速開發(fā)具有高技術(shù)水平的EUV 光刻膠”。

光刻膠（PR）也被稱為感光液，是半導(dǎo)體曝光工藝的核心材料。由光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、樹脂、單體、溶劑和其他助劑組成，又稱光致抗蝕劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，通過曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰涛g的細(xì)微圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工硅基片上。光刻膠的作用，除了提高加工精度，它還可以保護(hù)硅基材免受腐蝕，阻止離子影響。

在韓國(guó)，目前氟化氪(KrF)和氟化氬（ArF）工藝用光刻膠已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但能繪制更細(xì)微電路的EUV用光刻膠卻一直未開發(fā)成功。因?yàn)殚_發(fā)難度很大，韓國(guó)使用的EUV光刻膠大部分都是從日本進(jìn)口的。

2019年，東進(jìn)世美肯公司在日本實(shí)行對(duì)韓出口管制后加快了EUV光刻膠的開發(fā)步伐。利用現(xiàn)有的氟化氬曝光機(jī)等自身的基礎(chǔ)設(shè)施，以及比利時(shí)半導(dǎo)體研究所的IMEC EUV設(shè)備等，開始致力于實(shí)現(xiàn)EUV 光刻膠韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化開發(fā)。今年年初，公司充實(shí)了EUV光刻膠領(lǐng)域的專業(yè)人才，加快了技術(shù)開發(fā)的步伐。再加上三星電子積極支持EUV測(cè)試環(huán)境，實(shí)現(xiàn)了現(xiàn)場(chǎng)可利用的質(zhì)量高度化。業(yè)界相關(guān)人士評(píng)價(jià)稱：“僅用2年的時(shí)間成功開發(fā)EUV光刻膠本身就相當(dāng)困難”，“(通過EUV 光刻膠品質(zhì)認(rèn)證)是在三星電子合作支持下取得成果”。

EUV曝光機(jī)工作原理

三星電子是否會(huì)立即將東進(jìn)世美肯的EUV光刻膠投入半導(dǎo)體生產(chǎn)線還是未知數(shù)。通常通過質(zhì)量認(rèn)證后就投入量產(chǎn)線。因此部分人預(yù)測(cè)最早明年上半年存在向三星電子供應(yīng)的可能性。

對(duì)于通過EUV光刻膠質(zhì)量認(rèn)證，三星電子和東進(jìn)世美肯方面均諱莫如深。三星電子相關(guān)人士表示：“無(wú)法確認(rèn)與合作公司的質(zhì)量認(rèn)證”，并稱“將為推動(dòng)半導(dǎo)體材料、零部件、裝備多樣化而持續(xù)努力”。

東進(jìn)世美肯EUV光刻膠相關(guān)主要日程