獲得首筆訂單，上海新陽(yáng)自研KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品通過客戶認(rèn)證

與非網(wǎng)7月1日訊 上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“上海新陽(yáng)”）發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品近日已通過客戶認(rèn)證，并成功取得第一筆訂單。

光刻膠材料作為集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，被廣泛應(yīng)用于350nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。隨著國(guó)內(nèi)晶圓廠建設(shè)的不斷增多，以及國(guó)外光刻膠巨頭產(chǎn)能受限，供需緊張，國(guó)內(nèi)對(duì)光刻膠產(chǎn)品的需求也將快速增長(zhǎng)。

此次上海新陽(yáng)光刻膠產(chǎn)品取得首筆訂單訂單可謂是意義重大。上海新陽(yáng)表示，本次產(chǎn)品認(rèn)證的通過及訂單的取得，標(biāo)志著“KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化” 取得了成功，為上海新陽(yáng)在光刻技術(shù)領(lǐng)域目標(biāo)的全面完成奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

資料顯示，上海新陽(yáng)是國(guó)內(nèi)知名的半導(dǎo)體材料廠商，形成了擁有完整自主可控知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術(shù)，其開發(fā)研制出的140多種電子電鍍與電子清洗系列功能性化學(xué)材料，產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于集成電路制造、3D-IC先進(jìn)封裝、IC傳統(tǒng)封測(cè)等領(lǐng)域。

據(jù)悉，光刻技術(shù)是上海新陽(yáng)正在加快開發(fā)的第三大核心技術(shù)，并且已經(jīng)取得了重大突破。

此前的年報(bào)顯示，上海新陽(yáng)集成電路制造用ArF干法、KrF厚膜膠、I線等高端光刻膠驗(yàn)證工作正在穩(wěn)步推進(jìn)，部分光刻膠產(chǎn)品已取得優(yōu)異的線外測(cè)試數(shù)據(jù)。

年報(bào)披露，上海新陽(yáng)采購(gòu)的用于I線光刻膠研發(fā)的Nikon-i14型光刻機(jī)，用于KrF光刻膠研發(fā)的Nikon-205C型光刻機(jī)，用于ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400型光刻機(jī)，以及用于ArF浸沒式光刻膠研發(fā)的ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)已全部到廠。

上海新陽(yáng)指出，光刻機(jī)設(shè)備的陸續(xù)到位，有助于加速推動(dòng)公司在光刻技術(shù)的全產(chǎn)業(yè)鏈布局及開拓；同時(shí)公司加大在晶圓及先進(jìn)封裝濕制程設(shè)備領(lǐng)域的投資布局。

隨著全球缺芯潮繼續(xù)蔓延，晶圓代工廠的擴(kuò)產(chǎn)勢(shì)能已傳導(dǎo)至產(chǎn)業(yè)鏈上游。而光刻膠作為半導(dǎo)體光刻工藝的核心材料，仍面臨較大缺口。

當(dāng)下國(guó)產(chǎn)光刻膠與國(guó)外差距較大，用于生產(chǎn)6英寸硅片的g/i線光刻膠自給率為20%，生產(chǎn)8英寸硅片的KrF光刻膠自給率不足5%，制程更高的ArF和EUV膠則尚無量產(chǎn)，中高端光刻膠的市場(chǎng)份額幾乎被海外龍頭壟斷。

早前受福島地震影響，全球光刻膠龍頭之一的日本信越化學(xué)產(chǎn)能受限，并限制對(duì)華出口KrF光刻膠，進(jìn)一步加劇了國(guó)內(nèi)光刻膠供應(yīng)緊張局面。目前KrF光刻膠在國(guó)內(nèi)僅有彤程新材（603650.SH）的子公司北京科華實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，產(chǎn)能為10噸/年左右。

限供和缺貨也加速了光刻膠在本土下游晶圓廠的驗(yàn)證。除此次發(fā)布公告的上海新陽(yáng)外，南大光電（300346.SZ）自主研發(fā)的ArF光刻膠于近日通過第二家客戶驗(yàn)證，并獲小批量訂單；晶瑞股份（300655.SZ）的KrF光刻膠亦進(jìn)入客戶驗(yàn)證尾期。據(jù)業(yè)內(nèi)人士介紹，通常情況下，光刻膠研發(fā)投產(chǎn)后，需經(jīng)12～18個(gè)月的客戶驗(yàn)證周期。

在國(guó)產(chǎn)化良機(jī)推動(dòng)下，上述公司也在加碼半導(dǎo)體光刻膠的相關(guān)研發(fā)和產(chǎn)能建設(shè)。上海新陽(yáng)和晶瑞股份都在今年上半年購(gòu)入ASML光刻機(jī)，用于濕法ArF光刻膠的研發(fā)；彤程新材則在5月發(fā)布公告稱，子公司彤程電子投資5.7億元在上海建設(shè)年產(chǎn)1.1萬噸半導(dǎo)體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關(guān)配套試劑項(xiàng)目。