e世繪︱一份臺(tái)積電的預(yù)測(cè)，讓這些半導(dǎo)體設(shè)備廠商的2017年充滿懸念？

臺(tái)積電是全球規(guī)模最大的純代工廠，最近降低了公司 2017 年代工業(yè)務(wù)的營(yíng)收預(yù)期。

臺(tái)積電估計(jì)，整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè) 2017 年的增長(zhǎng)率為 7%，明顯低于 Gartner 估計(jì)的 12.3%，這意味著一些設(shè)備廠商的銷售情況將進(jìn)一步惡化。

由于供應(yīng)鏈庫(kù)存的增加，2017 年 4 月 13 日，全球最大的純代工廠臺(tái)積電在其投資者會(huì)議上削減了 2017 年度代工業(yè)務(wù)的營(yíng)收預(yù)期，并將全球代工業(yè)務(wù)的增長(zhǎng)率從 7%降低到 5%。

2016 年，所有純代工廠的總體營(yíng)收為 447 億美金，占到全球半導(dǎo)體行業(yè)總市值的 15.8%。除了老大臺(tái)積電之外，其它純代工廠包括但不限于格羅方德、聯(lián)電、中芯國(guó)際、Powerchip?Technology、TowerJazz、先鋒國(guó)際、上海華虹格蘭特、Dongbu 和 X-Fab。

這個(gè)營(yíng)收數(shù)字不包括那些不單純從事代工業(yè)務(wù)的半導(dǎo)體制造商，它們不僅為其它芯片公司制造芯片，還生產(chǎn)自家使用的芯片，這類公司包括三星、英特爾、德州儀器和意法半導(dǎo)體。

換而言之，代工業(yè)務(wù)的市場(chǎng)非常龐大，2016 年，臺(tái)積電貢獻(xiàn)了應(yīng)用材料公司總營(yíng)收的 16%。

最重要的是，臺(tái)積電表示，目前已經(jīng)有超過(guò)三十家客戶積極參與了臺(tái)積電的 7nm 工藝技術(shù)，2017 年將有 15 家公司的芯片采用 7nm 工藝流片，在 2017 年第二季度進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段，并于 2018 年進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。

為什么說(shuō)這種局面對(duì)一些設(shè)備廠商非常重要？因?yàn)椋^(guò)渡到 EUV 光刻技術(shù)后，芯片制造過(guò)程將省去目前制造先進(jìn)工藝芯片所需的許多沉積蝕刻步驟，我在之前的一篇文章中討論過(guò)，轉(zhuǎn)換到 EUV 光刻技術(shù)將影響整個(gè)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈。

下面這張來(lái)自 ASML 的圖簡(jiǎn)要說(shuō)明了為什么從多重圖形曝光 DUV 光刻過(guò)渡到 EUV 光刻技術(shù)將消除許多沉積和蝕刻步驟。隨著臺(tái)積電于 2018 年批量生產(chǎn)基于 EUV 光刻技術(shù)的芯片，僅應(yīng)用材料公司就將于 2017 年損失許多沉積和蝕刻設(shè)備的銷售。

英特爾和臺(tái)積電是全球排名前三的半導(dǎo)體制造商，2016 年，英特爾的整體營(yíng)收約為 563 億美金，臺(tái)積電的整體營(yíng)收為 293 億美金，合并統(tǒng)計(jì)，兩家公司的營(yíng)收占到 2016 年半導(dǎo)體行業(yè)總計(jì) 2821 億美金營(yíng)收的 30.3%。

另外，從資本支出上來(lái)看，這兩家公司也位居全球前三名。根據(jù)下表，2017 年英特爾的資本支出將達(dá)到 120 億美金，同比增長(zhǎng) 25%，而臺(tái)積電的資本支出則達(dá)到 100 億美金，同比下降 2%。

資本支出的變化可能會(huì)對(duì)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的相關(guān)公司收入產(chǎn)生巨大的影響。在上表中，去年 DRAM 市場(chǎng)的疲弱促使三星和 SK 海力士的資本支出分別減少了 13%和 14%，應(yīng)用材料公司 2016 年在大電流注入設(shè)備市場(chǎng)上的營(yíng)收就低于 2013 年，因?yàn)榇箅娏髯⑷朐O(shè)備是 DRAM 芯片制造過(guò)程中的主要使用設(shè)備。

因此，對(duì)像應(yīng)用材料公司這樣的設(shè)備廠商來(lái)說(shuō)，英特爾和臺(tái)積電這種大客戶的資本支出高于去年就意味著公司營(yíng)收的增長(zhǎng)，從而可能帶動(dòng)股價(jià)上漲。

我們來(lái)看下英特爾 2016 年度 16 位優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商獎(jiǎng)獲得者的名單，這份名單中的晶圓設(shè)備制造公司包括：

應(yīng)用材料公司：晶圓制造設(shè)備、備件和服務(wù)
ASML：半導(dǎo)體光刻設(shè)備
日立國(guó)際電氣公司：批量熱處理系統(tǒng)
Lam?Research?Corporation：晶圓蝕刻和沉積設(shè)備
東京電子有限公司：涂布機(jī) / 顯影劑，干蝕刻系統(tǒng)，濕蝕刻系統(tǒng)，熱處理系統(tǒng)，沉積系統(tǒng)和測(cè)試系統(tǒng)

值得注意的是，前年還入席的 KLA-Tencor 去年缺席了。

再來(lái)看看臺(tái)積電 2017 年 2 月宣布的卓越表現(xiàn)獎(jiǎng)，這次，我還是從 11 家獲獎(jiǎng)?wù)咧袉为?dú)抽出了晶圓前端設(shè)備制造商。

應(yīng)用材料公司?-?技術(shù)合作
ASM 國(guó)際?-?ALD 設(shè)備
EBARA 公司?-?CMP 和電鍍?cè)O(shè)備
日立國(guó)際電氣公司?-?爐設(shè)備
蘭姆研究公司?-?蝕刻設(shè)備

結(jié)論
2017 年的半導(dǎo)體行業(yè)將走向何方，這又將對(duì)設(shè)備廠商產(chǎn)生什么影響？臺(tái)積電在 4 月 13 號(hào)的投資者會(huì)議中聲稱，由于存儲(chǔ)器行業(yè)表現(xiàn)強(qiáng)勁，今年整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的年增長(zhǎng)率將達(dá)到 7%，剔除掉存儲(chǔ)器之后，其他半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的年增長(zhǎng)率僅為 4%。

就在同一天，研究機(jī)構(gòu) Gartner 上調(diào)了 2017 年半導(dǎo)體行業(yè)的增長(zhǎng)率預(yù)測(cè)，至 12.3%，遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩個(gè)月前預(yù)測(cè)的 7.4%。

就我個(gè)人而言，我認(rèn)為臺(tái)積電的預(yù)測(cè)更為靠譜，因?yàn)樗吘故峭耆珜Ｗ⒂诎雽?dǎo)體行業(yè)的。

且臺(tái)積電向 EUV 光刻技術(shù)的轉(zhuǎn)變對(duì)設(shè)備廠商的影響最為明顯，因?yàn)樗鼘⑹〉艉芏喑练e蝕刻設(shè)備的采購(gòu)，必然會(huì)使一部分設(shè)備廠商的銷售受到很大削減。

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