原子層沉積（ALD）工藝助力實(shí)現(xiàn)PowderMEMS技術(shù)平臺

據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道，近期，德國弗勞恩霍夫硅技術(shù)研究所（Fraunhofer Institute for Silicon Technology，ISIT）宣布將PICOSUN P-300B ALD系統(tǒng)用于其PowderMEMS技術(shù)平臺

PICOSUN P-300B ALD系統(tǒng)及技術(shù)特點(diǎn)

Fraunhofer ISIT的PowderMEMS是一項(xiàng)新研發(fā)的創(chuàng)新技術(shù)，用于在晶圓級上從多種材料中創(chuàng)建三維微結(jié)構(gòu)。該技術(shù)基于通過原子層沉積（ALD）工藝在空腔中將微米級粉末顆粒粘合在一起。與其它制造技術(shù)相比，PowderMEMS具有許多優(yōu)勢，因?yàn)樗试S使用比傳統(tǒng)燒結(jié)工藝低得多的工藝溫度。粘合的多孔結(jié)構(gòu)具有耐熱性和耐化學(xué)性，因此可以在潔凈室中進(jìn)行廣泛的后處理。

PowderMEMS技術(shù)特點(diǎn)

“PowderMEMS可用于多種領(lǐng)域，包括MEMS傳感器、MEMS執(zhí)行器、MEMS能量收集器、微流控、微電子等。例如，它能夠在晶圓級集成多孔和磁性3D微結(jié)構(gòu)?！盕raunhofer ISIT小組負(fù)責(zé)人Bj?rn Gojdka博士表示。

集成微磁體的MEMS能量收集器

磁性PowderMEMS微結(jié)構(gòu)

集成軟磁芯的微線圈

“我們正在尋找一種解決方案，用于在溝槽中對粉末進(jìn)行保形高表面積涂層。Picosun的ALD解決方案非常適合我們的需求，同時(shí)也在研究擴(kuò)大該技術(shù)的生產(chǎn)規(guī)模。我們對該ALD系統(tǒng)的熱壁反應(yīng)器、多用途的前驅(qū)體源、易于維護(hù)等感到特別滿意?！盕raunhofer ISIT首席科學(xué)家Thomas Lisec博士說道。

Picosun歐洲公司總經(jīng)理Christoph Hossbach博士表示：“我們對這項(xiàng)新技術(shù)的誕生及其帶來的所有機(jī)會感到興奮。我對Fraunhofer ISIT的PowderMEMS技術(shù)的潛在應(yīng)用印象特別深刻，因?yàn)槠浞浅６鄻踊Ｆ诖^續(xù)與Fraunhofer ISIT保持密切合