先進(jìn)制程中金屬互連層使用銅的大馬士革(Damascene)工藝,而不是用鋁制程工藝,主要原因包括銅在電學(xué)性能、制造工藝和可靠性等方面具有顯著優(yōu)勢(shì)。原因分析如下:
1. 電阻率
銅的電阻率較低:銅的電阻率約為1.68 μΩ·cm,而鋁的電阻率約為2.82 μΩ·cm。這意味著在相同的尺寸下,銅互連會(huì)比鋁互連具有更低的電阻,從而減少信號(hào)延遲,提高芯片的工作速度。
高頻性能更好:由于銅的低電阻率,在高頻工作時(shí),銅互連會(huì)產(chǎn)生更少的寄生效應(yīng),從而提高高頻電路的性能。
2. 電遷移抗性
銅的電遷移抗性更強(qiáng):電遷移是金屬原子在電流作用下的遷移現(xiàn)象,容易導(dǎo)致金屬互連斷裂或失效。銅的電遷移抗性遠(yuǎn)優(yōu)于鋁,因此在高密度和高電流密度的情況下,銅互連的可靠性更高。
3. 制造工藝
大馬士革工藝優(yōu)勢(shì):大馬士革工藝允許在半導(dǎo)體芯片上精確地嵌入銅線。這種工藝是通過在絕緣層中刻蝕出線條或通孔,再填充銅,最后進(jìn)行平坦化處理。這種方法使得銅互連具有更好的結(jié)構(gòu)完整性和更少的缺陷。
無(wú)需復(fù)雜的阻擋層:鋁互連需要在工藝中添加復(fù)雜的阻擋層以防止擴(kuò)散,而銅在大馬士革工藝中通常只需要較薄的阻擋層,簡(jiǎn)化了制造工藝。
4. 熱穩(wěn)定性
銅的熱穩(wěn)定性更好:銅在高溫下的性能穩(wěn)定性優(yōu)于鋁,這對(duì)于制造過程中涉及的高溫工藝以及芯片在高溫環(huán)境下的可靠性至關(guān)重要。
5. 互連密度
更高的互連密度:由于銅的電阻率較低,可以在相同的電流密度下實(shí)現(xiàn)更小的線寬,從而提高互連的密度。這對(duì)于不斷縮小的制程節(jié)點(diǎn)尤為重要。
銅的大馬士革工藝在先進(jìn)制程中替代鋁制程工藝主要是因?yàn)殂~具有更低的電阻率、更好的電遷移抗性和熱穩(wěn)定性,同時(shí)大馬士革工藝提供了精確的線條定義和較高的互連密度。這些因素綜合起來,使得銅互連在高性能和高密度集成電路中具有不可替代的優(yōu)勢(shì)。
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