半導(dǎo)體制造業(yè)提供溫度管理解決方案的領(lǐng)導(dǎo)者——ERS electronic,現(xiàn)推出全新高功率溫度卡盤系統(tǒng)。該技術(shù)針對高端 CPU、GPU 和高并行性 DRAM 器件應(yīng)用的晶圓測試,可在-60°C 至+200°C 溫度范圍內(nèi)對 Device Under Test (DUT)進行精確且強大的溫度控制。
在對復(fù)雜的嵌入式處理器(如用于機器學(xué)習(xí)、人工智能或數(shù)據(jù)中心的 CPU 和 GPU)和高并行性測試(如 DRAM 和 NAND)等應(yīng)用進行晶圓溫度針測時,需要耗散大量的功率以避免溫度過高。全新 ERS 高功率溫度卡盤系統(tǒng)可在 -40°C 的溫度條件下,在 300 毫米的卡盤上耗散高達 2.5 kW 的功率,這讓測試單個芯粒以及全晶圓接觸測試成為可能。作為附加選項,該系統(tǒng)還具備業(yè)界最佳的溫度均勻性,在 -40°C 時均勻性可穩(wěn)定在 ±0.2°C,在 -20°C 至 +85°C 之間甚至可達到±0.1°C,因此非常適合傳感器測試。
系統(tǒng)中使用的溫度卡盤由多個部分組成,還可通過 ERS 專利 PowerSense 軟件進行獨立控制。當向晶圓施加功率時,軟件會立即檢測到熱量的增加并迅速做出反應(yīng),冷卻受影響的區(qū)域。為了實現(xiàn)迅速散熱并達到溫度高均勻性,此次推出的新型溫度卡盤系統(tǒng)配備了一個液體而非空氣的冷卻機。
"對于高功率溫度卡盤系統(tǒng),我們有意使用工程液體,因為它們能夠滿足終端應(yīng)用的功率耗散要求。至于其它主流晶圓測試,我們?nèi)詢A向于使用空氣作為冷卻劑,"ERS electronic 首席技術(shù)官 Klemens Rei nger 說:"我們的解決方案之所以與眾不同,不僅是因為它在低溫條件下具備的卓越散熱性能,還因為它可以達到無與倫比的溫度均勻性:±0. 1°C。我們在繼續(xù)開發(fā)該系統(tǒng)的其他功能, 這些功能將進一步改善耗散性能和對分區(qū)的監(jiān)控,從而全面實現(xiàn)動態(tài)控制。
"ERS 的高功率溫度卡盤系統(tǒng)解決了高端處理器、DRAM 和 NAND 器件晶圓測試過程中出現(xiàn)的問題,"上海晶毅電子科技有限公司副總裁王亮先生說,"隨著對這些集成電路的需求不斷增長,我們預(yù)計中國客戶將會對該系統(tǒng)非常感興趣,這也是為什么我們已經(jīng)在與 ERS 共享的、位于上海的實驗室里安裝了該系統(tǒng),以便演示和供客戶評估的原因。
高功率溫度卡盤系統(tǒng)現(xiàn)已接受訂購。